热门: 生物制药 污染控制 IT电子
本期内容
赞助企业
KLA-Tencor 宣布推出新型光罩检测系统
KLA-Tencor 宣布推出新型光罩检测系统
录入时间:2016/8/25 21:01:08

KLA-Tencor 宣布推出新型光罩检测系统 

Teron 检测系统和光罩决策中心实现集成电路产业最复杂光罩的品质检验 

 

KLA-Tencor 公司针对 10 纳米及以下的掩膜技术推出三款先进的光罩检测系统,Teron™ 640Teron™ SL655 和光罩决策中心 (RDC)。所有这三套系统是实现当前和下一代掩膜设计的关键,使得光罩厂和集成电路晶圆厂能够更高效地辨识光刻中显著并严重损害成品率的缺陷。

819KLA-Tencor 公司在上海嘉里大酒店召开记者见面会,对新光罩检测系统做了详细介绍, 与非网,SEMI China, 半导体科技、电子制造及设备材料网,中国集成电路,中国高新区报等媒体记者到会做了专访。

 

 

利用创新的双重成像技术,Teron 640 检测系统为光罩厂提供了必要的灵敏度,对先进的光进行准确的品质检验。Teron SL655 检测系统采用全新的 STARlightGold™ 技术,帮助集成电路制造商评估新光罩的质量,监测光罩退化,并检测对成品率至关重要的光罩缺陷。Teron 检测机台的综合光罩质量测量是由光罩决策中心 (RDC) 支持的,RDC 是一套数据分析与管理系统,具备多种功能,支持缺陷的自动识别判断,缩短生产周期,并减少影响成品率的与光罩相关的掩模图案错误。

 

KLA-Tencor 的光罩产品事业部 (RAPID) 副总裁兼总经理熊亚霖博士称:今天的复杂的成像技术,例如隔板辅助四层成像 (SAQP),采用越来越复杂的光罩,这使得检验光罩质量并持光罩状况对实现最佳的晶圆图案成像至关重要。我们的团队已经开发出最先进的光罩检测与数据分析技术,将满足当前和下一代光罩设计的需求。通过将 Teron 640  Teron SL655 生成的大量数据与 RDC 的评估功能紧密结合,光罩厂和集成电路晶圆厂能够更高效地辨识光刻中显著的光罩缺陷,从而改善光罩的质量控制,并获得更好的产品图案成像。

 

Teron 640 建立在光罩业界领先的 Teron 光罩检测平台之上,通过采用193 纳米光源和双成像模式(结合了高分辨率检测和基于缺陷成像性识别的空中成像),Teron  640支持先进的光学光罩检测。此外,Teron 640 还增强了先进的芯片-数据库 (die-to-database) 检测算法,以进一步提高缺陷灵敏度,并提供新的更高产能选项,以缩短获取结果的时间。多套 Teron 640 光罩检测系统已经安装在晶圆代工厂和逻辑电路工厂中,用于高性能光罩的质量控制。

 

Teron SL655 的核心技术 STARlightGOLD 能够在新光罩质量检查时从光罩生成黄金参考,然后使用此参考进行光罩合格性的重新检测。这种独特的技术实现了全域光罩覆盖,并且创造出最佳的缺陷检测率,例如雾点生长或污染,籍此支持包括采用高度复杂的光学邻近技术在内的各种光罩类型。Teron SL655 拥有业界领先的产能,支持更快的生产周期和检测更多数量的光罩,满足先进的多图案技术光罩技术。此外,Teron SL655 与超紫外线 (EUV) 检测技术兼容,能够与集成电路制造商及早协作,满足晶圆厂对 EUV 光罩的要求。在新光罩质量控制和芯片生产过程中的光罩合格性重新检定方面,Teron SL655 系统正在接受集成电路制造商的评估。

 

RDC 是一套综合数据分析和存储平台,支持光罩厂和集成电路晶圆厂的多种 KLA-Tencor 光罩检量平台。RDC 可以提供包括自动缺陷分类 (ADC) 在内的数种应用,ADC 与检测机台及光刻平面检查 (LPR) 同时运行,而 LPR 则用于分析光罩检测仪所检出缺陷的成像性。这些应用可以让缺陷识别自动化,从而改善周期时间,并减少关键性错误。RDC 已被多家代工厂和内存制造商采光罩合格检验过程中的数据管理和分析。

 

Teron 640Teron SL655  RDC  LMS IPRO6 光罩图案放置量测系统和 K-T Analyzer® 先进数据分析系统一起,形成了全面的光罩合格性检定解决方案,以支持先进的光罩和集成电路制造商。Teron 640Teron SL655  RDC 也是 KLA-Tencor  5D Patterning Control Solution™ 的关键组成部分,它可以帮助集成电路制造商通过对整个晶圆厂和光罩厂的工艺监测与控制获得更好的图案成像的成果。为了保持前沿领先的掩膜和集成电路制造所要求的高性能和高产能,Teron 650Teron SL655  RDC  KLA-Tencor 的全球综合服务网络提供支持。关于更多信息,请参阅 5D 图案成型控制解决方案网页

 

走过40 

KLA-Tencor持续深耕中国 开发先进检测技术

 

今年适逢KLA-Tencor公司成立40周年,KLA-Tencor中国区总裁张智安在记者会上介绍了KLA-Tencor公司40年来走过的历程后表示,KLA-Tencor现于全球17国拥有5600多位员工。2016财年,KLA-Tencor营收表现来到30亿美元。从硅片检测到线宽量测,以及光罩部分,KLA-Tencor都在业界处于领先水平。除了这些业务以外,KLA-Tencor还提供技术支持与服务,帮助客户实现更大的生产价值。KLA-Tencor在中国的总部位于上海,在北京、天津、苏州、无锡、大连、西安、武汉、深圳都设有分支机构。

 

 

KLA-Tencor 光罩产品事业部 (RAPID) 副总裁兼总经理熊亚霖博士做了新型光罩检测系统专场报告。K熊亚霖博士介绍说,LA-Tencor40年前开发的第一项产品就是光罩检测设备。光罩缺陷对良率影响甚巨,这也是为什么每一片光罩都需要经过多次检测。无论是光罩厂或是硅片厂都需要非常优秀的光罩检测设备的辅助。

 

由于EUV技术仍无法实现量产目标,目前以193纳米生产光罩,困难度及复杂度更高,光罩缺陷的检测挑战性亦日益升高。KLA-Tencor针对 10 纳米及以下的掩膜技术推出了三款先进的光罩检测系统,Teron™ 640Teron™ SL655 和光罩决策中心 (RDC)。所有这三套系统是实现当前和下一代掩膜设计的关键,使得光罩厂和集成电路晶圆厂能够更高效地辨识光刻中显着并严重损害成品率的缺陷。熊亚霖博士表示,KLA-Tencor所提供的设备已能应用于第一代EUV技术的量产,之后亦能以升级方式量产新一代的EUV技术。

 

利用创新的双重成像技术,Teron 640 检测系统为光罩厂提供了必要的灵敏度,对先进的光进行准确的品质检验。Teron SL655 检测系统采用全新的 STARlightGold™ 技术,帮助集成电路制造商评估新光罩的质量,监测光罩退化,并检测对成品率至关重要的光罩缺陷。

 

Teron 640 是建立在光罩业界领先的 Teron 光罩检测平台之上,通过采用193 纳米光源和双成像模式(结合了高分辨率检测和基于缺陷成像性识别的空中成像),Teron  640支持先进的光学光罩检测。Teron SL655 的核心技术 STARlightGOLD 能够在新光罩质量检查时从光罩生成黄金参考,然后使用此参考进行光罩合格性的重新检测。Teron SL655 拥有业界领先的产能,支持更快的生产周期和检测更多数量的光罩,满足先进的多图案技术光罩技术。

 

 

中国区总裁张智安、光罩产品事业部 (RAPID) 副总裁兼总经理熊亚霖等回答了记者的提问.他们表示,除了持续提供高端设备给中国的客户,KLA-Tencor非常重视中国市场,在中国持续投资以实现进一步的发展,并体现了中国在全球半导体产业重要的战略地位。KLA-Tencor透过半导体检测与量测技术,透过最快的速度以最有效的方式,帮助客户解决在生产时面对的良率问题。KLA-Tencor立志于帮助中国客户一起提升良率,降低生产成本,提高生产效率。

 

 

 

关于 KLA-Tencor

KLA-Tencor 公司是工艺控制与成品率管理解决方案的领先提供商,它与全球客户合作,开发先进的检测与度量技术。这些技术为半导体、发光二极管 (LED) 及其他相关纳米电子产业提供服务。公司拥有广泛的业界标准产品系列及世界一流的工程师与科学家团队,四十年来为

 客户努力打造优秀的解决方案。KLA-Tencor 的总部设在美国加利福尼亚州米尔皮塔斯

 (Milpitas),并在全球各地设有专属的客户运营与服务中心。

版权声明:
本站部分内容、观点、图片、文字、视频来自网络,仅供大家学习和交流,真实性、完整性、及时性本站不作任何保证或承诺。如果本站有涉及侵犯您的版权、著作权、肖像权的内容,请联系我们(021-62511200),我们会立即审核并处理。
上一篇:赛普拉斯性能更健壮的笔记本电脑和... 下一篇:無線微型投影機Mini-Smar...
友情链接

一步步新技术

洁净室

激光世界

微波杂志

视觉系统设计

化合物半导体

工业AI

半导体芯科技

  首页 | 关于我们| 投稿指南 | 联系我们 |服务条款 | 隐私声明
Copyright© 2024: ; All Rights Reserved.
Baidu
map