据报道，美国戈尔公司与CT Associates于近期共同研发出一种用于半导体制造，用于测试在超纯水中sub-50nm微粒的滤芯。新滤芯将通过超滤和微滤相结合的方式吸附12nm左右大小的颗粒杂质。

       对于当前的半导体生产企业来讲，需要认识到自己的超纯水过滤系统不但能生成水而且同样给颗粒带来便利造成生产效率降低。这些肉眼看不见的微粒可以小到10nm甚至更小。

       目前，还没有颗粒测量仪器还没有能力测量出直径如此微小的颗粒，同时半导体厂商也十分清楚高效的过滤装置对实际生产的作用是显著的。

       这项技术的关键之处在于在超纯水中安装精密度足够高的气溶胶，并且在气溶胶里蒸发水。这样就把颗粒杂质残留下来，也只有这样才能被精确找到并测量。

       该方法在近期发表的一份白皮书中被转载，此方法一直以来都用于评估过滤性能的超滤过滤器，通常在超纯水系统最为普遍。该测试表明，尽管这些超过滤器效率高且稳定，但一些非常小的微粒仍可以通过并对正在生产的半导体元器件造成伤害。

                                            (戈尔白皮书）